Sigg-Stipendium für chinesische Kunstforschung 2020
Das Sigg-Stipendium für chinesische Kunstforschung findet parallel zum Sigg-Preis statt. Es bietet pro Wettbewerb einer Person für einen Zeitraum von drei bis sechs Monaten bei M + in Hongkong ein Stipendium in Höhe von 200.000 Hongkong-Dollar zur Deckung aller Kosten, einschließlich Reise-, Lebens-, Versicherungs- und Forschungskosten. „Der Stipendiat wird das Projekt als Antwort auf das für jede Ausgabe des Preises festgelegte Forschungsthema entwickeln und vor Ort und online auf die M + Sammlungen zugreifen, Bibliotheks- und Archivmaterialien abrufen, mehrere informelle interne Präsentationen halten und einnehmen Teilnahme an Diskussionen mit Kuratoren und anderen Mitarbeitern.“ Thema des jetzigen Wettbewerbs sind die „Ursprünge der Avantgarde der 1980er Jahre“ in China. Bewerbungsschluss ist der 31. Januar 2020, Bewerbungsunterlagen und Anfragen an: siggfellowship@mplus.org.hk
Dazu in Band 193 erschienen:
Dazu in Band 183 erschienen: